薄层氮化硼纳米片由交替排列的硼原子和氮原子组成，形成类似石墨烯的二维层状结构。 其基本结构单元为有机材料中结构最为稳定的六元环结构，这种结构赋予了氮化硼纳米片极高的机械强度和化学稳定性。薄层氮化硼纳米片的制备方法多种多样，其中化学气相沉积（CVD）法是一种常用的方法。此外，还有液相剥离法、机械剥离法、插层剥离法等。近年来，随着纳米技术的发展，一些新的制备方法如等离子体辅助化学气相沉积、激光诱导化学气相沉积等也逐渐被应用于薄层氮化硼纳米片的制备中。该产品采用球磨法制备，层数薄，分散性好。

技术参数

外观：白色或者淡黄色粉体

成分：氮化硼 h-BN

片径：1-5um  （SEM）

纯度：90at%  （EDS）

厚度：<5nm  （AFM）

堆积密度：0.1g-0.3g/cm3

备注：产品为球磨法制备，颜色与原料有关，不影响产品使用和检测。

产品特点

机械强度：薄层氮化硼纳米片理论上有极高的机械强度，显示出优异的力学性能。 

化学稳定性：氮化硼纳米片不易与其它物质发生化学反应，在空气当中900℃下都保持稳定，具有极高的热稳定性。 

导热性：氮化硼纳米片还具有良好的导热性，是制备高性能导热材料的理想选择。

应用

电子学 ：由于其二维结构和**的电子性质，氮化硼纳米片可以用于纳米电子器件、晶体管和量子点等应用。 

催化剂： 氮化硼纳米片可以用作催化剂载体，用于催化反应和能源应用，提高催化效率和稳定性。 感器等。

涂层和润滑材料 ：由于其优异的力学性能，氮化硼纳米片可以用于制备涂层和润滑材料，改善材料的耐磨性和摩擦性能，延长设备的使用寿命。

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