SKCC-GZB-X高真空磁控溅射永磁靶头(公、自旋转靶头)适用靶材种类较广,如金属/绝缘靶或磁性/非磁性靶材。配装有环形永磁体在靶头上,以保证溅射镀膜的效率和均匀性。可与DC或RF电源配合使用。
产品型号
SKCC-GZB-X(高真空磁控溅射公、自旋转靶头)
产品规格
1寸,SKCC-GZB-1
2寸,SKCC-GZB-2
3寸,SKCC-GZB-3
4寸,SKCC-GZB-4
注:其它尺寸可以订制
主要特点
1、转靶带挡板(可实现每次露出一个工作的靶,避免交叉污染);
2、采用电磁场的有元计算法来设计永磁体,以得到较高的磁场强度和均匀分布;
3、转靶转速5~60转/分可调;
4、标准的HN型接头,可与DC和RF电源相匹配;
5、安装采用标准真空法兰(CF金属密封或Dg胶圈密封可选);
6、靶材更换较为简单,无需调整溅射头的高度。
配套电源
1、直流DC;2、射频RF