产品型号

VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪

主要特点

1、配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。

2、可制备多种薄膜，应用广泛。

3、体积小，操作简便。

技术参数

1、输入电源：220V/50Hz

2、溅射靶数量：2

3、靶枪冷却方式：水冷

4、极限真空度：7.4E-5pa

5、真空室规格：Φ300×330 mm

6、真空系统：VRD-16机械泵 FF-100/150涡轮分子泵

7、恢复真空：系统从大气抽至5.0E-3pa≤30 min（系统短时间暴露大气）

8、充气系统：2路质量流量计（１路氩气100scc、２路氩气200scc）特殊气体可定制

9、溅射靶规格：Φ2"，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）

10、样品台：Φ140mm/可旋转（1～20rpm）/可加热（室温～1000℃）

产品规格

主机尺寸：宽900mm×深650mm×高1100mm