MS-450高真空多靶磁控溅射镀膜机

真空腔室：直径450✕H400mm，1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接，前开门结构；

真空系统：机械泵+分子泵（进口和国产可选）；

极限真空：优于5✕10-5Pa（经烘烤除气后）；

真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min；

升降基片台：2～6英寸基片台，靶基距60～120mm连续在线自动可调，旋转0～20r/min可调，可加热至500℃（可选水冷功能），可选配偏压清洗功能；

磁控靶：直径3英寸2～4只（可升级成直径4英寸靶2～3只），兼容直流和射频，可以溅射磁性材料的靶材；

溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选；

质量流量计：2～3路工艺气体，可根据工艺要求增加；

膜厚监控仪：可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪；

控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空。

公司有全自动数控加工中心、数控车床等设备,主要产品:非标铝合金真空腔体,
镀膜机腔体,不锈钢真空腔体加工,真空炉体,PVD系列镀膜机腔体,腔体配套真空管道等系列真空产品,
可加工真空腔体连续线，专业定做非标高真空,超高真空腔体。我公司采用三维建模软件,
按照实际比例建立3d仿真模型,根据客户文字、语言草图等需求表述,专业设计出适合客户所需产品方案
(在方案定稿之前所有设计不收取任何费用)。

常见真空腔体技术性能：

材质：不锈钢、铝合金等

腔体适用温度范围：-190℃~+1500℃(水冷)

密封方式：氟胶O型圈或金属无氧铜圈

出厂检测事项：

1、真空漏率检测1.3*10-10mbar*l/s

2、水冷水压检测：8公斤24小时无泄漏检测.

3、内外表面处理：拉丝抛光处理、喷砂电解处理、酸洗处理、电解抛光处理和镜面抛光处理等.